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(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221722849.6 (22)申请日 2022.07.06 (73)专利权人 辛耘企业股份有限公司 地址 中国台湾台北市 (72)发明人 曾明月 (74)专利代理 机构 北京泰吉知识产权代理有限 公司 11355 专利代理师 史瞳 谢琼慧 (51)Int.Cl. B01D 29/03(2006.01) B01D 29/58(2006.01) B01D 29/96(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 化学清洗 槽 (57)摘要 一种化学清洗槽, 包含槽单元、 排液过滤单 元及进液过滤单元。 该槽单元包括主槽体及进液 槽体。 该主槽体具有底壁及主围壁, 该底壁与该 主围壁共同形成容置空间。 该底壁具有排放孔。 该主围壁具有顶缘。 该进液槽体连接该主围壁外 侧靠近该顶 缘处, 并与该主围壁共同形成进液空 间。 该排液过滤单元设于该排放孔处, 并包括层 状上下间隔设置的多个过滤板片。 上层的过滤板 片的孔径大于下层的过滤板片 的孔径, 且上、 下 层的过滤板片的孔洞位置错位排列。 该进液过滤 单元直立设置于该主围壁且高出该顶缘并具有 过滤网, 用以过滤进入该容置空间的化学液。 通 过该排液过滤单元与该进液过滤单元过滤杂质 以减少杂质 对于循环管路系统及制程质量的影 响。 权利要求书1页 说明书3页 附图6页 CN 217549151 U 2022.10.11 CN 217549151 U 1.一种化学清洗槽, 适用于连接循环管路系统以供应化学液以进行剥离光阻制程, 其 特征在于: 该化学清洗 槽包含: 槽单元, 包括主槽体及进液槽体, 该主槽体具有底壁及直立连接该底壁的主围壁, 该底 壁与该主围壁共同形成容置空间, 该底壁具有排放孔, 该主围壁具有远离该底 壁的顶缘, 该 进液槽体连接该主围壁外侧靠近该顶缘处, 并与该主围壁共同形成进液空间, 以供化学液 自该进液空间溢流进入该容置空间; 排液过滤单元, 设于该排放孔处, 并包括层状上下间隔设置的多个过滤板片, 每一个过 滤板片具有多个孔洞, 其中, 位于上层的过滤板片的孔洞的孔径大于位于下层的过滤板片 的孔洞的孔径, 且位于上层的过滤板片的孔洞位置与位于下层的过滤板片的孔洞位置错位 排列; 及 进液过滤单元, 直立设置于该主围壁且高出该顶缘并具有至少一过滤网, 用以过滤进 入该容置空间的化学 液。 2.根据权利要求1所述的化学清洗槽, 其特征在于: 该过滤网的网孔孔径小于所述过滤 板片的孔洞的孔径。 3.根据权利要求1所述的化学清洗槽, 其特征在于: 该过滤网具有框体、 设于该框体以 由该框体支撑的网体, 及多个连接该框体的固定臂, 所述固定臂与该框体共同夹置固定于 该主围壁上并能够拆离 。 4.根据权利要求3所述的化学清洗槽, 其特征在于: 该框体呈矩形并具有上框段、 下框 段及分别连接该上框段与该下框段两侧的两个侧框段, 每一个固定臂具有自该上框段往下 延伸的连结段、 自该连结段弯折延伸以抵靠于该顶缘的支撑段, 及自该支撑段往下延伸的 弹性段, 该框体位于该主围壁外侧且所述固定臂的弹性段位于该主围壁内侧, 以共同将该 主围壁夹 置其间。 5.根据权利要求1所述的化学清洗槽, 其特征在于: 该排液过滤单元还包括直立围绕所 述过滤板片的外周壁。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 217549151 U 2化学清洗槽 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种化学清洗 槽, 特别是 涉及一种具有过 滤功能的化学清洗 槽。 背景技术 [0002]在半导体制程中通常利用光阻作为蚀刻屏蔽, 以形成预定结构, 而在结构成形后 需要利用化学液清洗将光阻去除。 现有的化学清洗槽通常连接循环管路系统, 以使用以去 除光阻的化学 液能够循环使用, 节省使用化学 液的成本 。 [0003]由于光阻剥落后会进入化学液中形成杂质, 现有的循环管路系统一般使用管路型 过滤器来过滤杂质, 若未过滤杂质, 容易造成管路系统的零件损伤, 例如泵(pump)的膜片、 加热器等。 然而, 管路型过滤器通常过滤杂质的粒径偏小, 导致更换频率过高, 而在更换过 滤器时需要停机, 影响机台产能效率。 发明内容 [0004]本实用新型的一目的在于提供一种能过 滤杂质且容 易清理杂质的化学清洗 槽。 [0005]本实用新型的化学清洗槽在一些实施态样中, 适用于连接循环管路系统以供应化 学液以进行剥离光阻制程, 该化学清洗槽包含: 槽单元、 排液过滤单元及进液过滤单元。 该 槽单元包括主槽体及进液槽体。 该主槽体具有底壁及直立连接该底壁的主围壁, 该底壁与 该主围壁共同形成容置空间。 该底壁具有排放孔。 该主围壁具有远离该底壁的顶缘。 该进 液 槽体连接该主围壁外侧靠近该顶缘处, 并与该主围壁共同形成进液空间, 以供化学液自该 进液空间溢流进入该容置空间。 该排液过滤单元设于该排放孔处, 并包括层状上下间隔设 置的多个过滤板片 。 每一个过滤板片具有多个孔洞, 其中, 位于上层的过滤板片的孔洞的孔 径大于位于下层的过滤板片的孔洞的孔径, 且位于上层的过滤板片的孔洞位置与位于下层 的过滤板片的孔洞位置错位排列。 该进液过滤单元直立设置于该主围壁且高出该顶缘并具 有至少一过 滤网, 用以过 滤进入该容置空间的化学 液。 [0006]在一些实施 态样中, 该 过滤网的网孔 孔径小于所述过 滤板片的孔洞的孔径。 [0007]在一些实施态样中, 该过滤网具有框体、 设于该框体以由该框体支撑的网体, 及多 个连接该框体的固定臂, 所述固定臂与该框体共同夹 置固定于该主围壁上并能够拆离 。 [0008]在一些实施态样中, 该框体呈矩形并具有上框段、 下框段及分别连接该上框段与 该下框段两侧的两个侧框段, 每一个固定臂具有自该上框段往下延伸的连结段、 自该连结 段弯折延伸以抵靠于该顶缘的支撑段, 及自该支撑段往下延伸的弹性段, 该框体位于该主 围壁外侧且所述固定臂的弹性段位于该主围壁内侧, 以共同将该主围壁夹 置其间。 [0009]在一些实施 态样中, 该排液 过滤单元还包括直立围绕所述过 滤板片的外周壁。 [0010]本实用新型具有以下功效: 通过该排液过滤单元与该进液过滤单元能够减少杂质 对该循环管路系统造成的不良影响, 且能降低循环使用的化学液中的杂质对制程质量的影 响, 并延长化学液 的使用寿命。 而且该排液过滤单元与该进液过滤单元, 不仅方便清洁, 也 容易维修更 换, 进而能减少停机时间、 提升产能。说 明 书 1/3 页 3 CN 217549151 U 3
专利 化学清洗槽
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