GB-T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

ICS 71.040.40 G04 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T30701—2014/ISO17331:2004 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定 Surface chemical analysis-Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy (ISO17331:2004,IDT) 2014-06-09发布 2014-12-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会 GB/T30701—2014/IS017331:2004 目次前言引言 IV 范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义缩略语 5 试剂 6 仪器设备 7 试样制备及其测量环境校准试样的制备 9 绘制校准曲线 10 工作标准样品上铁和/或镍的收集 11 工作标准样品上所收集铁和/或镍的测定 12 精密度 13测试报告附录A（资料性附录）国际实验室间试验项目结果附录B（资料性附录）国际实验室间试验项目的GF-AAS和ICP-MS测量结果 14

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